近年來，面對寡頭壟斷格局，

中國半導體產業掀起了一股國產化替代的浪潮。

作為半導體制造的核心流程，

光刻工藝對于芯片制造來說至關重要，

而光刻膠正是光刻工藝最重要的耗材，

在光刻過程中起到防腐蝕的保護作用，

對光刻精度至關重要。

因此，光刻膠被稱為半導體材料上的明珠，

是半導體產業最關鍵的材料。

對于「造芯」，光刻膠有多重要？

光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等照射或輻射，其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。

一般的半導體生產過程需要經過光刻工藝，在光刻和蝕刻生產環節中，光刻膠涂覆于晶體薄膜表面，經曝光、顯影和蝕刻等工序將光罩(掩膜版)上的圖形轉移到薄膜上，形成與掩膜版對應的幾何圖形。

在半導體領域，光刻膠主要用來制作晶圓，就是如下這個東西。

在PCB領域，光刻膠分為干膜光刻膠、濕膜光刻膠、光成像阻焊油墨，主要用作微細圖形加工。

在面板顯示領域，光刻工藝同樣應用于ITO sensor的制造。ITO sensor是通過將ITO材料按照特定的圖案，涂在玻璃或者Film上，然后貼在一層厚的保護玻璃上得到的，主要使用于觸屏應用。

總結而言，光刻膠是IC制造的核心耗材，其質量和性能是影響集成電路性能、成品率及可靠性的關鍵因素。約占IC制造材料總成本的5%。

試想一下，沒有了光刻膠就相當于沒有了半導體的基礎材料，而沒有了半導體就沒有了芯片，我們就用不了手機、電腦等，這對我們日常生活的影響可想而知。

光刻膠的儲存和運輸

光刻膠是在半導體制造過程中使用的一種重要材料。它是一種可以通過光（例如紫外線）來改變其化學性質的材料，進而可以用來在硅片上形成微小的圖案。由于光刻膠的化學性質，對于存儲和運輸的條件要求尤為苛刻。

一、溫度控制

光刻膠通常需要在冷藏環境中存儲，大多數光刻膠需要在4°C至10°C之間的溫度下存儲。在這個溫度范圍內，光刻膠可以保持其性質穩定。

如果光刻膠的儲存或運輸溫度過高，可能會對其化學性質產生不良影響，可能會出現以下幾種情況：

1.物理性質改變：過高的溫度可能會導致光刻膠的粘度降低。粘度是液體阻力的度量，關系到光刻膠的涂覆過程。如果粘度降低，可能會影響涂覆的均勻性和厚度。高溫可能加速光刻膠中溶劑的揮發，導致固含量增加。這可能影響到光刻膠涂覆后的干燥速度，以及圖案形成的質量。高溫可能會破壞光刻膠中微粒的穩定狀態，使其發生沉淀或聚集，影響涂覆過程的均勻性。

2.化學反應：光刻膠是由一系列復雜的化學物質組成的，過高的溫度可能會引發一些預期之外的化學反應，影響光刻膠的性能。光刻膠中的一些單體或預聚物在高溫下可能會加速聚合，導致光刻膠的粘度、固含量或光敏性發生變化。

3.光敏性變化：光刻膠中的光敏劑在高溫下可能會加速降解，導致光敏性降低，影響曝光過程，這可能會影響到在硅片上形成圖案的精度和復雜度。保存期限縮短：過高的儲存溫度會加速光刻膠中各種化學反應的速度，導致光刻膠的性能下降，因此會縮短其有效保存時間。一般來說，許多光刻膠在推薦的儲存條件（通常是4°C至10°C）下，有效期可以達到一年或更長。但如果儲存溫度過高（比如超過30°C），保存時間可能會大幅縮短，可能只有幾個月，甚至更短。

二、避光處理

光刻膠對光，尤其是紫外線非常敏感。暴露在光線中可能會引發光刻膠的光化學反應，使得其性質發生改變，因此在儲存和運輸過程中，需要對光刻膠做好避光處理。在儲存和運輸光刻膠的過程中，可以使用不透光的材料進行包裝，例如不透光的塑料瓶或者金屬罐。這可以有效阻擋光線對光刻膠的影響。將光刻膠存儲在無窗或者窗戶有遮光窗簾的室內環境，避免光線直接照射到光刻膠。在運輸過程中，也可以使用遮光的運輸工具。在使用過程中，盡量減少光刻膠暴露在光線下的時間。在不使用時，立即將光刻膠放回遮光的儲存環境。

三、運輸規定

光刻膠作為一種化學品，在運輸過程中的確需要遵守相關的危險品運輸規定。根據國際危險品運輸法規，所有的危險品都需要被正確地分類并貼上相應的標簽，以表明其危險性質。運輸危險品需要有相應的運輸文檔，包括安全數據表（SDS）和危險品運輸聲明。危險品的運輸工具需要有相應的安全設備，例如消防器材。某些危險品可能還有特定的運輸路線要求。參與危險品運輸的人員需要接受相應的培訓，了解如何安全地處理危險品。

因此，光刻膠在儲存和運輸過程中，溫度監測尤為重要。澤大儀器PDF溫度記錄儀外形小巧、溫感靈敏，防護等級高達IP67，可用于監視和記錄產品儲存和運輸中的溫度，驗收時通過其USB端口連接到計算機，并導出PDF報告，使運輸過程更加便利，交貨便捷，提高效率。產品溫度范圍在-30℃~60℃，符合光刻膠儲存和運輸的溫度要求。

芯片之基，國之砝碼

光刻膠在全球市場上越來越占據重要地位。

然而，光刻膠屬于高技術壁壘材料，需要與光刻機配合使用，生產復雜，純度要求高，需要長期技術積累。光刻膠產業是典型的技術和資本雙密集型產業，其中，半導體光刻膠的生產難度最大。光刻膠市場主要由日本和美國壟斷，其中日本占比72%，而大陸企業市占率不足13%。

所以想不再受制于人，光做出國產光刻機還不行，原材料方面也必須實現全面自主化。

根據資料顯示，徐州博康成立于2010年3月，位于江蘇省邳州經濟開發區，是一家集研發、生產、經營光刻膠、光刻膠單體和光刻膠樹脂為主的國家高新技術企業。

徐州博康一直很低調，所以不被大眾熟知，但是他常年給國外光刻膠大廠提供核心原材料，客戶包括JSR、TOK、東麗等等。同時，徐州博康還擁有自主且完整的光刻膠產業鏈，已經實現從單體材料、專用樹脂、光酸以及最終光刻膠產品的全品類國產化，也是目前國內一家可以規模化生產光刻膠單體材料的企業。

華為正在全力攻克半導體領域里的各種關鍵技術和設備，此次其全資子公司哈勃入股徐州博康，也意味著華為正式進入了光刻膠領域。

所以，我們也希望徐州博康在華為的加持下，能夠幫助中國半導體行業盡快實現光刻膠的國產化替代。

那么通過華為不斷地在半導體領域持續投資，我們也能夠感受到，華為極有可能正在培育自己的半導體產業鏈，如果這是真的，那么對于國產半導體行業來說，必然是一針強心劑。